沈阳半导体薄膜设备产业化基地项目

一、建设项目名称与概况
项目名称: 沈阳半导体薄膜设备产业化基地项目
概况：沈阳拓荆科技有限公司半导体薄膜设备产业化基地（一期）项目位于沈阳市浑南新区风能南路，该项目总建筑面积约36350平方米，主要建设内容为厂房，综合楼及附属配套设施，购置设备。总投资1.5亿元。主要产品为成电路制造专用设备等。本项目主要进行设备组装和工艺研发。

二、拟采用的环保措施
施工期：施工扬尘、施工机械噪声、建筑垃圾及施工废水；
运营期：①废气：硅片薄膜沉积过程中的废气；食堂油烟。②废水：员工生活污水和生产废水，硅片清洗过程中的含氟废水等。③噪声：主要为设备运行时产生的噪声。④固废：PECVD工艺工程中破损硅片返厂；员工生活产生的生活垃圾；薄膜清洗过程中产生的废液；食堂产生的餐饮垃圾。

三、联系方式
建设单位：沈阳拓荆科技有限公司
通讯地址：沈阳市浑南新区新源街1号
联系人：刘部长
联系电话：13940150719

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