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光催化机理光催化氧化(非均相)是以n型半导体(作催化剂的氧化过程。当 催化剂受到紫外光照射时,表面的价带电子(e-)就会被激发到导带,同时在 价带产生空穴(h),形成电子空穴对(h-e-)。这些电子和空穴迁移到粒子表 面后,由于空穴有很强的氧化能力,使水在半导体表面形成氧化能力极强的 qiang基自由基(·OH),qiang基自由基再与水中有机污染物发生氧化反应,最终生 成CO2、H2O及无机盐等物质。
莱芜光催化氧化设备——昊威环保废气处理新技术!

光催化氧化技术利用光激发氧化将O2、H2O2等氧化剂与光辐射相结合。所 用光主要为紫外光,包括uv-H2O2、uv-O2等工艺,可以用于处理污水中 CHCl3、CCl4、多氯联苯等难降解物质。另外,在有紫外光的Fenton体系 中,紫外光与铁离子之间存在着协同效应,使H2O2分解产生qiang基自由基的 速率大大加快,促进有机物的氧化去除。
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